Sistemi e tecnologie elettroniche/La giunzione pn

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Template:Sistemi e tecnologie elettroniche Una giunzione pn è una regione di semiconduttore perfettamente cristallino nella quale si abbia una parte drogata p ed una drogata n. Si parla idealmente di giunzione brusca quando non c'è alcuna regione di transizione tra le due regioni e le concentrazioni di atomi droganti passano subito da NA a ND.

Condizioni di equilibrio termodinamico

Supponiamo di riuscire idealmente a realizzare una giunzione pn saldando assieme due semiconduttori, sebbene in realtà la tecnologia non consenta tecnicamente tale operazione. I due semiconduttori presi inizialmente isolati sono omogenei e localmente neutri → trascurando il contributo dei portatori minoritari, le cariche dei portatori maggioritari si compensano con quelle degli atomi ionizzati.

Dopo la formazione della giunzione, siccome i portatori minoritari in ciascuna regione sono trascurabili, i portatori maggioritari si spostano per diffusione nel lato opposto, ma l'incontro tra una lacuna e un elettrone libero in corrispondenza della giunzione metallurgica provoca una ricombinazione dei due → tra le regioni inizia a formarsi una regione svuotata (o di carica spaziale).

La regione svuotata è priva di portatori liberi, e quindi la carica degli atomi ionizzati non è più bilanciata → la regione svuotata ha una densità di carica ρ non nulla (in particolare pari a qNA nella metà verso il lato p, e qND nella metà verso il lato n), e internamente a essa si crea un campo elettrico detto built-in (o di contatto), associato a un potenziale Vbi non applicato dall'esterno detto built-in (o di contatto). Siccome è negativo,[1] il campo elettrico oppone al moto di diffusione di portatori liberi una forza di trascinamento sempre maggiore, agente sui pochissimi portatori minoritari rimasti nella regione svuotata, fino a raggiungere l'equilibrio dettagliato:

{Jdiffn+Jtrn=0Jdiffp+Jtrp=0

Non c'è un confine netto tra la regione neutra e la regione svuotata; l'ampiezza della regione di transizione viene però considerata trascurabile nell'approssimazione di completo svuotamento: la regione svuotata è esattamente compresa tra xp e xn.

Applicando il teorema di Gauss:

ΩρdV=ΣDn^dσ=Σϵn^dσ

a un cilindro Ω che racchiude la regione svuotata:

  • le basi tagliano la giunzione in xp e xn, cioè nelle regioni neutre dove il campo elettrico è nullo;
  • il vettore normale n^ alla superficie cilindrica Σ è ortogonale all'asse del cilindro, a sua volta parallelo all'asse x e al campo elettrico → il prodotto scalare n^=0.

La regione racchiusa dal cilindro è quindi in condizione di neutralità globale:

ΩρdV=0xpxnρ(x)dx=0

e ciò impone delle condizioni ai grafici di ρ(x) e (x):

(qNA)(xp)=(qND)xA{NAxp=NDxn(0)=(0+)=max

Se NDNAxp0, si può trascurare la parte di regione svuotata appartenente al campione drogato di tipo p (e viceversa).

In equilibrio termodinamico, la regione svuotata presenta perciò un campo elettrico (x):

ddx=ρϵ(x)={qNAϵ(x+xp)xpx0+qNDϵ(xxn)0xxn

che, per la condizione di neutralità globale, in corrispondenza della giunzione metallurgica equivale a:

(0)=(0+)max=qNAϵxp=qNDϵxn

da cui si ricava un potenziale elettrostatico φ(x) a tratti parabolici:

dφdx=φ(x)={0xxp+qNA2ϵ(x+xp)2xpx0qND2ϵ(xxn)2+qNA2ϵxp2+qND2ϵxn20xxnφ(xn)φ(xp)=qNA2ϵxp2+qND2ϵxn2xxn

Diagramma a bande

Il diagramma a bande di energia è una rappresentazione grafica dell'energia potenziale U alla quale sono sottoposti gli elettroni. Nella regione svuotata, l'energia potenziale U(x)[2] segue l'andamento inverso del potenziale elettrostatico φ(x):

U(x)=qφ(x)

determinando ai capi della regione svuotata una barriera di energia potenziale qVbi, che si oppone al flusso di portatori, con potenziale built-in Vbi pari a:

Vbi=φ(xn)φ(xp)=U(xn)q+U(xp)q=EFi(xn)+EFi(xp)q

Si può dimostrare che siccome il dispositivo non è attraversato da corrente, il livello di Fermi EF si trova a un livello di energia potenziale costante lungo x. Nelle regioni neutre, le equazioni di Shockley legano il livello di Fermi EF al livello di Fermi intrinseco EFi(x):

{n=ND=nieEFEFikBTp=NA=nieEFiEFkBT{EFEFi=kBTlnNDninxnEFiEF=kBTlnNAnixxp

Sfruttando anche la condizione di neutralità globale NAxp=NDxn, si ricava che le ampiezze xn e xp sono proporzionali alla radice quadrata del potenziale built-in Vbi=φ(xn)φ(xp) che sta ai capi della regione svuotata:[3]

{Vbi=EFi(xn)+EFi(xp)q=kBTqlnNANDni2Vbi=φ(xn)φ(xp)=qNA2ϵxp2+qND2ϵxn2NAxp=NDxn{xn=2ϵqNeqNDφ(xn)φ(xp)xp=2ϵqNeqNAφ(xn)φ(xp)xd=xn+xp=2ϵq1Neqφ(xn)φ(xp)

dove Neq è il "parallelo" tra le concentrazioni NA e ND:

Neq=NA||ND=NANDNA+ND

Reinterpretazione del diagramma a bande

Per il diagramma a bande viene preso come riferimento assoluto il livello del vuoto E0, che è la minima energia che deve assumere un elettrone per liberarsi e uscire all'esterno del cristallo. Si definiscono i seguenti salti di energia:

  • affinità elettronica qχS: il salto di energia rispetto ad Ec:
    qχS=E0Ec
  • lavoro di estrazione qϕS: il salto di energia rispetto al livello di Fermi EF:
qϕS=E0EF=qχS+EcEF

Il lavoro di estrazione qϕS dipende dal drogaggio; l'affinità elettronica è propria del materiale (ad es. per il silicio vale: qχS=4,05eV).

I due campioni presi isolati presentano un diverso livello di Fermi EF: il campione drogato di tipo p ha un livello di Fermi inferiore a quello intrinseco EFi, e l'altro di tipo n lo ha superiore.

Formata la giunzione, l'equilibrio impone che il livello di Fermi EF sia costante → il salto tra i due livelli di Fermi dei campioni isolati deve essere annullato da uno sfalsamento pari a qVbi del livello del vuoto E0 → siccome anche l'affinità elettronica qχS dev'essere costante, tutti gli altri livelli di energia subiscono pari sfalsamento. Nella regione svuotata, la variazione del livello di Fermi EF rispetto a quello intrinseco EFi determina il flusso di portatori liberi.

Ricordando le equazioni di Boltzmann, i due campioni, aventi uguale affinità elettronica qχS perché dello stesso materiale, quando presi isolati hanno i seguenti lavori di estrazione:

{qϕSp=qχS+Eg(EFEv)=qχS+EgkBTlnNvNAqϕSn=qχS+(EcEF)=qχS+kBTlnNcND

La barriera di energia potenziale qVbi all'equilibrio della giunzione coincide con la differenza dei lavori di estrazione:

qVbi=qϕSpqϕSn{qVbi=EgkBTlnNvNcNANDni2=NcNveEgkBTqVbi=kBT(lnNcNvni2lnNvNcNAND)=kBTlnNANDni2

Assenza di equilibrio in regime stazionario nel tempo

Applicando dall'esterno una tensione V costante alla giunzione pn si determina una corrente I.

Nella giunzione pn si possono riconoscere 3 regioni, che sono in serie perché sono attraversate da una corrente I costante che:

  • entra dalla parte a potenziale più alto, senza venire dispersa perché si assume la condizione di contatto ohmico;
  • attraversa la regione neutra tra wp e xp, su cui vi è una caduta di potenziale V1;
  • attraversa la regione svuotata tra xp e xn, su cui vi è una caduta di potenziale V2;
  • attraversa la regione neutra tra xn e wn, su cui vi è una caduta di potenziale V3;
  • esce dalla parte a potenziale più basso, sempre in condizione di contatto ohmico, e per la legge di Kirchhoff il suo valore è pari al valore iniziale.

Le regioni neutre sono drogate in modo omogeneo → le conducibilità σn=qNDμn e σp=qNAμp sono costanti → le regioni neutre sono di tipo resistivo, e vengono chiamate resistenze parassite Rpn e Rpp:

Rp=1σwxA

Siccome le regioni sono in serie, la somma delle cadute di potenziale V1, V2 e V3 coincide con la tensione applicata V:

{V=V1+V2+V3Rp=Rpn+RppV=RpI+V2

Per semplicità, si trascurerà la corrente che scorre nelle resistenze parassite, in modo che queste ultime non intervengano nella giunzione pn:

I0{VV20

Polarizzazione inversa

Applicando una tensione V[4] negativa, essa si sovrappone nella regione svuotata alla tensione built-in Vbi:

φ(xn)φ(xp)=VbiV=Vbi+|V|>Vbi

allargando i confini xn e xp della regione stessa e aumentando il campo elettrico di trascinamento e la barriera di energia potenziale q(VbiV) in opposizione al flusso per diffusione dei portatori maggioritari. Prevale quindi la forza di trascinamento che agisce sui pochissimi portatori minoritari rimasti nella regione di svuotamento → si determina una corrente I negativa (cioè positiva verso il lato p) che, poiché il numero di portatori minoritari spostati è molto ridotto, è di intensità molto piccola e indipendente dalla tensione V.

Polarizzazione diretta

Applicando una tensione V positiva, essa si sovrappone nella regione svuotata alla tensione built-in Vbi, restringendo i confini e riducendo la barriera di energia potenziale → viene favorito il flusso per diffusione dei portatori maggioritari → si determina una corrente I positiva (verso il lato n) che, vista la grande disponibilità di portatori maggioritari, è fortemente crescente con la tensione V.

Contributi di trascinamento Jtr dei portatori minoritari

Siccome nelle regioni neutre si suppone che il campo elettrico sia trascurabile e che il livello di iniezione sia basso (nppp al lato p e pnnn al lato n), i contributi di trascinamento Jtr dei portatori minoritari si possono ignorare:

{x<xp:(x)0np(x)pp(x)Jtrn=qnp(x)μn(x)0x>xn:(x)0pn(x)nn(x)Jtrp=qpn(x)μp(x)0

Contributi di diffusione Jdiff dei portatori minoritari

In equilibrio termodinamico:

{{pp0(xp)=NAnp0(xp)=ni2NA{nn0(xn)=NDpn0(xn)=ni2NDVbi=VTlnNANDni2{Vbi=VTlnpp0(xp)pn0(xn)Vbi=VTlnnn0(xn)np0(xp){pn0(xn)=pp0(xp)eVbiVTnp0(xp)=nn0(xn)eVbiVT

Supponendo un basso livello di iniezione:

{nn(xn)nn0(xn)pp(xp)pp0(xp)

in assenza di equilibrio termodinamico vale la legge della giunzione:

eVbiVVT=eVbiVTeVVT{pn(xn)(pp0(xp)eVbiVT)eVVT=pn0(xn)eVVT=ni2NDeVVTnp(xp)(nn0(xn)eVbiVT)eVVT=np0(xp)eVVT=ni2NAeVVT{pn(xn)=pn(xn)pn0(xn)=ni2ND(eVVT1)np(xp)=np(xp)np0(xp)=ni2NA(eVVT1)

È possibile vedere ciascun lato della giunzione come un campione drogato uniformemente, in condizione di quasi neutralità, sottoposto a un'iniezione di basso livello di portatori minoritari all'estremità x=±xn,p (vedi). Supponendo che i due lati wp e wn siano lunghi rispetto alla lunghezza di diffusione dei portatori minoritari Ln,p=Dn,pτn,p, la distribuzione è esponenziale:

{pn(x)pn(xn)exxnLp=ni2ND(eVVT1)exxnLpnp(x)np(xp)ex(xp)Ln=ni2NA(eVVT1)ex(xp)Ln

Ai confini xp e xn della giunzione metallurgica:

  • polarizzazione inversa: si verifica uno svuotamento di portatori minoritari perché i loro eccessi sono negativi:
    V<0{pn(xn)<0np(xp)<0
  • polarizzazione diretta: si verifica un'iniezione di portatori minoritari perché i loro eccessi sono positivi:
    V>0{pn(xn)>0np(xp)>0

I portatori minoritari danno perciò ai confini della giunzione i seguenti contributi di diffusione Jdiff:

{Jdiffp(xn)=qDpdpndx|x=xnJdiffn(xp)=qDndnpdx|x=xp=qDnLnni2NA(eVVT1)

Contributi Jdiff+Jtr dei portatori maggioritari

Al di fuori della regione svuotata La densità di corrente totale Jtot è costante poiché la corrente I è costante lungo x → i contributi dei portatori maggioritari Jp(x) e Jn(x) si possono ricavare come i "complementari" dei contributi di diffusione Jdiffp e Jdiffn dei minoritari.

All'interno della regione svuotata

Trascurando:

  • le variazioni nel tempo delle concentrazioni di carica libera perché si suppone di lavorare in condizioni stazionarie:
    {nt=0pt=0
  • il contributo dei fenomeni di generazione e ricombinazione nella regione svuotata:
    {Un=nn0τn=0Up=pp0τp=0

le equazioni di continuità impongono che le densità di corrente Jp e Jn devono essere costanti:[5]

{nt=+1qJnxUnpt=1qJpxUp{Jnx=0Jpx=0{Jn(x)=cost.Jp(x)=cost.

Graficamente, si ottengono i contributi Jp e Jn dei portatori maggioritari ai confini xp e xn della regione svuotata:

{Jp(xp)=Jdiffp(xn)=qDpLpni2ND(eVVT1)Jn(xn)=Jdiffn(xp)=qDnLnni2NA(eVVT1)

Caratteristica statica I(V)

All'interno della regione svuotata, la densità di corrente totale è costante:

Jtot=Jn(x)+Jp(x)=Jdiffn(x)+Jtrn(x)+Jdiffp(x)+Jtrp(x)=qDnLnni2NA(eVVT1)+qDpLpni2ND(eVVT1)

e la corrente I che scorre è espressa in funzione della tensione V nella caratteristica statica, definita come la relazione tra la tensione V, applicata dall'esterno, e la corrente I in regime stazionario nel tempo, cioè con tensione a transitorio esaurito e con corrente stabilizzata a un valore costante:

I(V)=JtotA=[qAni2(DnLnNA+DpLpND)](eVVT1)=Is(eVVT1)

dove Is è la corrente di saturazione inversa della giunzione:

Is=qAni2(DnξnNA+DpξpND)={qAni2(DnLnNA+DpLpND)wp,nLn,p (lato lungo)qAni2(DnwpNA+DpwnND)wp,nLn,p (lato corto)

che essendo proporzionale a ni2NA,D è molto piccola se il drogaggio è abbastanza grande.

A seconda del tipo di polarizzazione domina il termine esponenziale o la corrente Is:

  • polarizzazione inversa: V<0 → domina la corrente Is → la corrente IIs è molto piccola anche con una tensione V elevata;
  • polarizzazione diretta: V>0 → domina il termine esponenziale → la corrente I è fortemente crescente con la tensione V.

Se non si trascura il contributo dei fenomeni di generazione e ricombinazione, la caratteristica statica segue la legge:

I=Is(eVηVT1)

dove η è il fattore di idealità, e dipende dalla polarizzazione: η=η(V) (η=1÷2). Per una giunzione al silicio:

  • η2 per basse tensioni dirette (V0,3V) e in polarizzazione inversa;
  • η1 per tensioni dirette elevate.

Modello statico

Si alimenti un diodo in DC con un generatore reale Va di resistenza R (che includa la resistenza parassita Rp). La tensione V sul diodo e la corrente I devono soddisfare due vincoli:

  • la caratteristica statica I(V) (non lineare) del diodo;
  • la relazione lineare (detta retta di carico) dovuta alla legge di Kirchhoff:
    I=VaVR

La soluzione (I0,V0) costituisce il punto di funzionamento della giunzione, in questo caso a riposo poiché la tensione del generatore è costante.

Si può usare un modello statico semplificato per la caratteristica statica:

  • diodo interdetto: in polarizzazione inversa (V<Vγ), il diodo è un circuito aperto → I=0;
  • diodo in conduzione: in polarizzazione diretta (I>0), il diodo è un generatore ideale di tensione con una caduta di potenziale V0 costante pari alla tensione di accensione VγEg2q (per il silicio: Vγ=0,5÷0,6V).

Nel diodo ideale, i comportamenti della corrente I sono approssimati al circuito aperto e al cortocircuito: la conduzione è permessa solo se la corrente scorre dal catodo verso l'anodo.

Fenomeni di breakdown

In polarizzazione inversa, esiste un valore negativo di tensione, detto di breakdown VBD, in cui avviene un fenomeno di rottura. Dopo il breakdown, la corrente aumenta[6] in modo brusco, più dell'esponenziale, e la giunzione si comporta in modo simile a un generatore ideale di tensione; siccome sia la tensione sia la corrente sono molto elevate,[6] la potenza dissipata p=vi>0 è molto grande e può distruggere il dispositivo (in polarizzazione diretta invece la tensione non è così elevata).

Cause di breakdown

Perforazione diretta

Una tensione applicata troppo elevata[6] può allargare la regione svuotata fino ai confini della giunzione, annullando la barriera di energia potenziale in uno "scivolo" che favorisce il moto dei portatori maggioritari dai bordi al lato opposto → si determina una corrente molto elevata. Il fenomeno è favorito in diodi con lati sottili.

Effetto valanga

L'allargamento della regione svuotata corrisponde a un aumento[6] del valore di picco del campo elettrico. Se la tensione applicata supera[6] la tensione di breakdown per effetto valanga caratteristica del materiale, il campo elettrico supera[6] il valore critico Ec a cui è associata, e i portatori liberi in BC durante il loro moto casuale nel cristallo, quando urtano tra di loro, acquisiscono energia cinetica sufficiente a causare la generazione da impatto di una coppia elettrone-lacuna → in BC all'elettrone se ne aggiunge un altro → aumentano gli urti → moltiplicazione a valanga dei portatori → brusco aumento della corrente inversa. Il fenomeno è favorito in giunzioni con lati poco drogati, perché a parità di campo elettrico hanno una regione svuotata più ampia. Al crescere della temperatura, la tensione di breakdown per effetto valanga aumenta.[6]

Effetto Zener

Se la regione svuotata è molto sottile e se i livelli di energia Ev e Ec sono tanto degeneri che il livello Ec al lato n è superiore al livello Ev al lato p, un campo elettrico superiore[6] al valore critico può indurre il passaggio orizzontale per effetto tunnel di un elettrone dalla BV del lato p alla BC del lato n (viceversa per le lacune). Il fenomeno è favorito da giunzioni con lati molto drogati, quindi aventi una regione svuotata più sottile a parità di campo elettrico. Al crescere della temperatura, la tensione di breakdown per effetto Zener diminuisce.[6]

Diodi Zener

I diodi Zener sono appositamente progettati per lavorare in condizioni di breakdown dovuto sia all'effetto Zener sia all'effetto valanga: poiché questi due tipi di breakdown presentano due comportamenti opposti in funzione delle variazioni di temperatura, essi si compensano a vicenda (stabilizzazione in temperatura). La condizione di breakdown è però limitata in tensione e corrente entro la Safe Operating Area (SOA) indicata dal produttore, altrimenti il dispositivo si può distruggere per effetto termico.

Il circuito equivalente di un diodo Zener reale è costituito dalla serie:

  • generatore di tensione VZ0=VBD, detta tensione nominale;
  • resistore di resistenza RZ, detta resistenza parassita.

Nella regione di breakdown, la caratteristica statica Ir(Vr)=I(V) è approssimabile a una retta di pendenza 1RZ; idealmente, la retta è verticale → la resistenza parassita RZ è nulla. I diodi Zener trovano applicazione come stabilizzatori di tensione, perché se il carico è in parallelo a un diodo Zener quest'ultimo rende costante la tensione fornita al carico indipendentemente dal suo valore di carico.

Assenza di equilibrio con tensione applicata tempo-variante

Capacità di svuotamento Cs(v)

Nella regione svuotata vi è la carica fissa Qf, costituita dalle coppie di portatori maggioritari ricombinate, a cui è associata la capacità di svuotamento Cs(v):

is(t)=dQfdt=dQfdvdvdt=Cs(v)dvdt{Cs(v)=dQfdvQf=qAxp(v)0NAdx=qANAxp(v)xp(v)=2ϵqNeqNAVbiv(t)Cs(v)=AqϵNeq21Vbiv(t)

Questo modello non vale nella regione di alta iniezione, cioè per v(t)Vbi o maggiore, perché in polarizzazione diretta una tensione v non sufficientemente bassa comporta una corrente i(v) molto elevata → la corrente che scorre nelle resistenze parassite Rp non è più trascurabile:

v(t)Vbi{i(v)=Is(ev(t)VT1)+xpVbiv(t)+Rpi(v)+xpVbiv(t)0 secondo il modello (errato)

Capacità di diffusione Cd(v)

Nelle due regioni neutre vi è la carica mobile Qm, costituita dai portatori minoritari in eccesso spinti dalla tensione di polarizzazione diretta (vd. diapositiva 27), a cui è associata la capacità di diffusione Cd(v), che è proporzionale alla corrente che scorre nella giunzione:

{id(t)=dQddt=dQddvdvdt=Cd(v)dvdtQm=Qn=qAwpxpnp(x)dxqAxpnp(x)dx{Cd(v)=dQmdv=qAni2VT(LnNA+LpND)ev(t)VTiDC(v)=Is(ev(t)VT1)ev(t)VT=IDC(v)Is+1Cd(v)ev(t)VTiDC(v)

Modello dinamico di ampio segnale

In una giunzione pn, quindi, sono presenti due cariche, la carica fissa Qf(v) e la carica mobile Qm(v),[7] dipendenti dalla tensione applicata v(t) e associate alle due capacità non lineari rispettivamente Cs(v) e Cd(v).

Prevale l'uno o l'altro tipo di carica a seconda del tipo di polarizzazione:

  • polarizzazione inversa: prevale la capacità di svuotamento Cs(v) (v(t)<0 → l'esponenziale di Cd(x) tende a zero);
  • polarizzazione diretta: prevale la capacità di diffusione Cd(v) (v(t)>0 → l'esponenziale di Cd(x) tende a infinito).

Se la tensione di ingresso è tempo-variante, alla corrente di uscita ottenuta dalla caratteristica statica iDC(v) (cioè la risposta istantanea con tensione di ingresso costante) si aggiungono degli effetti capacitivi di ritardo, determinati dalla presenza delle cariche fissa e mobile che dipendono da una tensione applicata tempo-variante v(t):

i(v)=iDC(v)+Cs(v)dvdt+Cd(v)dvdt

Il circuito equivalente di ampio segnale è costituito dal parallelo tra una resistore non lineare e due condensatori non lineari di capacità Cs(v) e Cd(v).

Modello statico

Se la tensione è costante nel tempo, gli effetti capacitivi scompaiono e vale la caratteristica statica. Quest'ultima può essere ulteriormente approssimata al modello statico semplificato del diodo.

Modello dinamico di piccolo segnale

Spesso un dispositivo elettronico è alimentato da una tensione di alimentazione costante e riceve in ingresso un segnale tempo-variante → il segnale tempo-variante di uscita v(t) o i(t) può essere decomposto nella somma tra il contributo costante V0 o I0 e il contributo tempo-variante vss(t) o iss(t):

{v(t)=V0+vss(t)i(t)=I0+iss(t)

In condizione di piccolo segnale |vss(t)||V0|, le componenti della corrente i(v) possono essere sviluppate in serie di Taylor:

{iDC(v)iDC(V0)+iDCv|v=V0vss(t)=I0+gd0vss(t)Qf(v)Qf(V0)+Qfv|v=V0vss(t)=Qf(V0)+Cs0vss(t)Qm(v)Qm(V0)+Qmv|v=V0vss(t)=Qm(V0)+Cd0(v)vss(t)

dove:

  • gd0 è la conduttanza differenziale:
    {gd0=iDCv|v=V0iDC(v)=Is(evηVT1){gd0=IsηVTeV0ηVTeV0ηVT=I0Is+1gd0=I0+IsηVT
  • Cs0 è la capacità differenziale di svuotamento:
    Cs0=Qfv|v=V0=AqϵNeq21VbiV0
  • Cd0 è la capacità differenziale di diffusione:
    Cd0=dQmdvv=V0=qAni2VT(LnNA+LpND)eV0VT

La corrente i(v) è quindi linearizzabile nell'approssimazione di piccolo segnale in questo modo:

i(v)=I0+iss(t)=iDC(v)+(Qf(v)dtdvdt+dQm(v)dtdvdt)I0+gd0vss(t)+(Cs0dvssdt+Cd0dvssdt)

da cui si distingue la relazione tra le variazioni di segnale rispetto al punto di funzionamento a riposo I0:

iss(t)=gd0vss(t)+Cs0dvssdt+Cd0dvssdt

che è descritta dal circuito equivalente di piccolo segnale (lineare), costituito dal parallelo di un resistore e due condensatori.

Nel circuito di piccolo segnale:

  • gli elementi lineari (R, L, C) rimangono invariati;
  • i generatori di tensione/corrente costante vengono spenti (tensione → cortocircuito, corrente → circuito aperto).

In polarizzazione diretta la capacità di svuotamento Cs0 è trascurabile e prevale la capacità di diffusione Cd0 grazie al termine esponenziale dominante. La conduttanza gd0 posta in parallelo, però, è proporzionale anch'essa allo stesso termine esponenziale → l'elemento capacitivo è in parallelo con una resistenza molto piccola → a capacità di diffusione elevate corrispondono elevate perdite di potenza dovute all'elemento resistivo. In polarizzazione inversa, invece, la conduttanza gd0 posta in parallelo con la capacità di svuotamento Cs0 dominante è molto piccola → si verificano perdite di potenza inferiori.

Note

  1. Si suppone che l'asse x sia orientato dalla regione drogata di tipo p a quella drogata n, con l'origine in corrispondenza della giunzione metallurgica.
  2. Tutte le energie definite nelle bande di energia (Ec, Ev, Eg, EF, EFi) seguono l'andamento della generica U(x).
  3. Le espressioni di xn, xp e xd ricavate qui varranno anche in assenza di equilibrio termodinamico con φ(xn)φ(xp)=VbiV.
  4. Si ricorda che la tensione V del generatore si scarica tutta sulla tensione V2 della regione svuotata perché si trascurano le regioni neutre.
  5. Inoltre, anche all'interno della regione svuotata la densità di corrente totale è costante.
  6. 6,0 6,1 6,2 6,3 6,4 6,5 6,6 6,7 6,8 in valore assoluto
  7. Esse sono state ricavate per brevità considerando solamente il lato p.